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자] 삼성이 3연승의 휘파람을 불었다.

삼성은 24일 대구삼성라이온즈파크에서 열린 한화와의 홈경기에서 이학주의 끝내기 안타에 힘입어 3-2 역전승을 장식했다. 21일 광주 KIA전 이후 3연승.

삼성은 김상수(2루수)-박해민(중견수)-구자욱(좌익수)-이원석(지명타자)-이학주(유격수)-최영진(3루수)-이성곤(우익수)-김응민(포수)-이성규(1루수)로 타순을 꾸렸다.

한화는 이용규(중견수)-김민하(좌익수)-김태균(1루수)-최진행(지명타자)-송광민(3루수)-장운호(우익수)-정은원(2루수)-최재훈(포수)-오선진(유격수)으로 선발 라인업을 구성했다.

한화는 1회 이용규의 볼넷, 김태균의 우익선상 2루타로 1점을 먼저 얻었다. 2회 1사 후 최재훈의 좌중월 1점 홈런으로 2-0으로 앞서갔다. 삼성은 2회 1사 1,3루와 3회 무사 1,3루 기회를 잡았으나 한 방이 터지지 않아 아쉬움을 삼켰다. 5회 이원석의 좌익수 희생 플라이로 1점을 추격했다. 그리고 9회 2사 1,3루서 구자욱의 적시타로 2-2 균형을 이뤘다. 그리고 이학주의 끝내기 안타로 짜릿한 역전 드라마를 연출했다.

한화 선발 장시환은 5이닝 7피안타 2볼넷 9탈삼진 1실점 호투하며 시즌 2승 요건을 갖추고 마운드에서 내려왔으나 계투진이 무너지는 바람에 아쉬움을 삼켰다. 8번 포수로 선발 출장한 최재훈은 4타수 4안타(1홈런) 1타점 1득점으로 분전했다.

삼성 선발 허윤동은 5이닝 2실점(5피안타(1피홈런) 5볼넷 3탈삼진)으로 비교적 잘 던졌으나 타선이 침묵하는 바람에 승수를 추가하지 못했다. 3번 좌익수로 선발 출장한 구자욱은 5타수 4안타 1타점의 매서운 타격감을 과시

고 재능과 연봉 기부에도 팬들의 반응은 싸늘 KBO의 온정적이고 원칙없는 대응이 문제 음주, 도박, 폭력, 성추문에도 징계는 순간일 뿐 곧바로 복귀 개혁없는 KBO와 정운찬 총재의 무능에 질타 쏟아져 정치는 정치인이, 야구는 야구인이 하는 야구판 되야

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KBO리그 복귀를 추진 중인 전 메이저리거 강정호가 지난 23일 서울 상암동 스탠포드호텔에서 열린 음주운전 관련 공개 사과 기자회견에서 인사하는 모습.(사진=박종민 기자)음주운전으로 물의를 빚은 프로야구 선수 강정호가 23일 공식 사과 기자회견을 했다.

4년째 술을 끊었고 유소년 선수들에게 재능기부를 하고 첫해 연봉을 음주운전 피해자들에게 기부하겠다고 밝혔다.

그러나, 팬들의 반응은 여전히 싸늘나눔로또파워볼 하다.

가장 큰 이유는 그의 음주운전 경력이 단 한번의 실수가 아니기 때문이다.

그의 음주운전은 메이저리그에서 활동하던 2016년에 앞서 2009년과 2011년에도 있었다.

음주운전 상습범이었다는 얘기다.

“야구로 보답하겠다”는 강정호의 첫 사과가 공허하게 들리는 이유다.

그래서 “야구할 기회를 다시 달라”는 강정호의 사과회견이 복귀를 위한 ‘사과쇼’일 뿐이라는 냉담한 반응이 나오는 것으로 보인다.

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류대환 한국야구위원회(KBO) 사무총장이 지난 23일 서울 강남구 KBO에서 열린 2020년 제4차 실행위원회에서 발언하는 모습.(사진=연합뉴스)앞서,파워볼게임 KBO(한국야구위원회)는 강정호에게 1년 선수자격 실격 징계를 내렸다.

그러나, KBO의 징계는 징계의 파워볼 의미 보다 선수복귀의 길을 열어줬다는 눈총이 많았다.

그동안 야구팬들은 KBO의 오락가락 행정과 무능함을 익히 보아왔다.

특히, 정치인 출신 정운찬 총재가 취임한 2018년 이후 KBO는 권위와 신뢰를 완전히 잃었다.

프로야구판에 음주운전 사례는 강정호만이 아니다. 이름을 일일이 거론하기 어려울 정도다.

그런데 KBO 징계의 징계는 그때 그때 달랐다. 원칙도 단호함도 없었다.

고무줄 징계로 음주운전 선수가 잠깐의 징계기간을 거친 뒤 복귀하는 사례가 수두룩하다.

음주운전만이 아니다. 도박과 폭력, 성추문 사건도 끊이지 않고 있다.

그런데, 한번도 단호한 징계가 없었다. 온정적이고 형식적 

 내부 전기 간섭 최소화하는 소재 개발
‘소자 미세화’로 반도체 집적, 정보처리 속도 향상
UNIST, 삼성전자 종합기술원, IBS 등 국제 공동연구

UNIST(총장 이용훈)는 자연과학부 신현석 교수팀과 삼성전자 종합기술원(SAIT)의 신현진 전문연구원팀 등 국내 연구진을 주축으로 국제 공동 연구팀이 반도체 칩 안에 금속 배선을 분리하는 새로운 소재를 개발했다. 그림은 비정질 질화붕소 증착과정 실리콘 기판 (노란색) 위에서 붕소 및 질소의 증착에 의해 3nm a-BN 박막이 형성되는 과정을 보여주고 있다. /그림 = UNIST 제공
【파이낸셜뉴스 울산=최수상 기자】 반도체 칩 안에 금속 배선을 분리하는 새로운 소재가 개발됐다. 이 소재를 이용하면 소자를 아주 작게 만엔트리파워볼 들 수 있고, 메모리와 같은 반도체 칩의 작동 속도를 높일 수 있다.
UNIST(총장 이용훈)는 자연과학부 신현석 교수팀과 삼성전자 종합기술원(SAIT)의 신현진 전문연구원팀, 기초과학연구원(IBS)을 포함하는 국제 공동 연구진이 반도체 집적회로(Integrated Chip, IC칩)에 사용될 수 있는 ‘초저유전율 절연체’를 개발했다고 24일 밝혔다.

UNIST 자연과학부 신현석 교수(왼쪽) 삼성전자 종합기술원(SAIT)의 신현진 박사 /사진=UNIST
합성된 절연체를 사용하면 반도체 회로 간 전기적 간섭을 획기적으로 줄여 ‘소자 미세화’가 가능하다는 게 연구진의 설명이다.
반도체 칩에 많은 데이터를 저장하고 정보처리 속도를 빠르게 하려면, 칩 안에 소자 숫자가 늘어나야 한다. 하지만 더 많은 소자를 넣으려고 소자 크기를 작게 만들면 오히려 정보처리 속도가 느려질 수 있다. 반도체 내부에서 전자를 금속 배선 안에만 머무르게 만드는 ‘절연체’가 전자를 모으는 성질(유전율)이 있어 전자의 흐름을 방해하기 때문이다. 반도체 소자가 작아지고 배선 사이 간격이 좁아지면 이러한 현상이 더 심해진다. 따라서 반도체 소자의 집적도를 높이려면, 금속 배선에서 전자 이탈은 막으면서도 유전율은 낮은 절연체가 필요하다.

개발된 ‘초저유전율 절연체’의 성질. (a) a-BN의 유전상수, (b) 기존 저유전 소재와 a-BN의 밀도 및 유전상수 비교 데이터. (c)기존 저유전 소재와 a-BN의 breakdown field 비교 데이터. (d) 코발트(Co) 금속 증착 후, 600도에서 가열해도 Co 원자가 실리콘(Si) 기판으로 못 이동하도록 a-BN이 장벽 역할을 함을 보여주는 단면 HR-TEM 이미지. 기판으로 못 이동하도록 a-BN이 장벽 역할을 함을 보여주는 단면 HR-TEM 이미지.

공동 연구팀은 기존 절연체보다 낮은 유전율을 갖는 ‘비정질 질화붕소(amorphous boron nitride) 소재’를 합성하고, 낮은 유전율을 갖는 원인을 밝혀냈다. 원래 질화붕소는 다양한 결정이 존재하는데, 화이트 그래핀으로 알려진 육방정계 질화붕소는 그래핀처럼 육각형의 규칙적인 원자 배치이지만 이번에 합성된 질화붕소는 원자 배치가 불규칙한 ‘비정질’이다. 합성된 물질의 유전율은 1.78로 현재 사용되는 절연체의 유전율보다 30% 이상 낮다.
제1저자인 홍석모 UNIST 자연과학부 박사과정 연구원은 “낮은 온도(400℃)에서 육방정계 질화붕소가 기판에 증착되는지 연구하던 중 ‘비정질 질화붕소’를 발견했고, 반도체 절연체로서 적용 가능성을 확인했다”며 “이 물질처럼 유전율이 낮은 절연체를 이용하면 반도체 칩의 전력 소모를 줄이고 작동 속도는 높일 수 있어 미래 반도체의 소재로 적합할 것”이라고 설명했다.

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